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    羅姆實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET一體化封裝 可替代Si-IGBT

    發(fā)布時(shí)間:2012-06-18 來(lái)源:羅姆

    產(chǎn)品特點(diǎn):
    • SCH2080KE實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝
    • 無(wú)開(kāi)啟電壓,具備卓越的電流電壓特性
    • 正向電壓降低70%以上,減少了損耗和部件個(gè)數(shù)
    • 無(wú)尾電流,可進(jìn)行低損耗開(kāi)關(guān)
    應(yīng)用領(lǐng)域:
    • 工業(yè)設(shè)備和太陽(yáng)能發(fā)電功率調(diào)節(jié)器等的逆變器、轉(zhuǎn)換器

    羅姆面向工業(yè)設(shè)備和太陽(yáng)能發(fā)電功率調(diào)節(jié)器等的逆變器、轉(zhuǎn)換器,開(kāi)發(fā)出耐壓高達(dá)1200V的第2代SiC MOSFET“SCH2080KE”。本產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝,比Si-IGBT相比,工作損耗降低了70%,并可達(dá)到50kHz以上的開(kāi)關(guān)頻率。

    本產(chǎn)品于世界首次成功實(shí)現(xiàn)SiC-SBD與SiC-MOSFET的一體化封裝。內(nèi)部二極管的正向電壓(VF)降低70%以上,實(shí)現(xiàn)更低損耗的同時(shí)還可減少部件個(gè)數(shù)。該產(chǎn)品生產(chǎn)基地在ROHM Apollo Co., Ltd.(日本福岡縣),從6月份開(kāi)始出售樣品,從7月份開(kāi)始陸續(xù)量產(chǎn)。

    現(xiàn)在,在1200V級(jí)別的逆變器和轉(zhuǎn)變器中一般使用Si-IGBT,但尾電流和外置FRD的恢復(fù)導(dǎo)致的功率轉(zhuǎn)換損耗較大,因此,更低損耗、可高頻動(dòng)作的SiC-MOSFET的開(kāi)發(fā)備受期待。但是,傳統(tǒng)的SiC-MOSFET,體二極管通電導(dǎo)致的特性劣化(導(dǎo)通電阻和正向電壓的上升/耐性劣化)和柵氧化膜故障等可靠性方面的課題較多,之前無(wú)法實(shí)現(xiàn)真正的全面導(dǎo)入。

    此次,羅姆通過(guò)改善晶體缺陷相關(guān)工藝和元件構(gòu)造,成功地攻克了包括體二極管在內(nèi)的可靠性方面的所有課題。而且,與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比,單位面積的導(dǎo)通電阻降低了約30%,實(shí)現(xiàn)了芯片尺寸的小型化。
     圖1:SiC-MOSFET與Si-IGBT的損耗特性比較
    圖1:SiC-MOSFET與Si-IGBT的損耗特性比較

    另外,通過(guò)獨(dú)創(chuàng)的安裝技術(shù),還成功將傳統(tǒng)上需要外置的SiC-SBD一體化封裝,使SiC-MOSFET的體二極管長(zhǎng)久以來(lái)的課題—降低正向電壓成為可能。
    由此,與一般的逆變器中所使用的Si-IGBT相比,工作時(shí)的損耗降低了70%以上,實(shí)現(xiàn)了更低損耗的同時(shí),還實(shí)現(xiàn)了50kHz以上的更高頻率,而且有助于外圍部件的小型化。

    另外,此次還同時(shí)開(kāi)發(fā)了與SiC-SBD非同一封裝的型號(hào)SiC-MOSFET“SCT2080KE”,提供滿足不同電路構(gòu)成和客戶需求的產(chǎn)品。兩種產(chǎn)品將在6月19日(周二)~21日(周四)于上海世博展覽館舉行的聚集電力電子、智能運(yùn)動(dòng)、電力特性等最新技術(shù)的專業(yè)類展會(huì)“PCIM Asia 2012”的羅姆展臺(tái)展出。詳細(xì)特點(diǎn)描述如下:

    SiC-MOSFET與SiC-SBD一體化封裝


    成功實(shí)現(xiàn)“SCH2080KE”與傳統(tǒng)上需要外置的SiC-SBD的一體化封裝,降低了正向電壓。可減少部件個(gè)數(shù),而且有助于進(jìn)一步節(jié)省空間。產(chǎn)品陣容中還包括傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的“SCT2080KE”,可滿足客戶的多種需求。
     圖2:SCH2080KE實(shí)現(xiàn)SiC-MOSFET與SiC-SBD一體化封裝
    圖2:SCH2080KE實(shí)現(xiàn)SiC-MOSFET與SiC-SBD一體化封裝

    無(wú)開(kāi)啟電壓,具備卓越的電流電壓特性

    通過(guò)優(yōu)化工藝和元件構(gòu)造,與第1代產(chǎn)品相比,單位面積的導(dǎo)通電阻降低約30%。不存在一般使用的Si-IGBT長(zhǎng)久以來(lái)所存在的開(kāi)啟電壓,因此即使在低負(fù)載運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)損耗也很低。
     圖3:SiC-MOSFET不存在Si-IGBT的開(kāi)啟電壓
    圖3:SiC-MOSFET不存在Si-IGBT的開(kāi)啟電壓

    正向電壓降低70%以上,減少了損耗和部件個(gè)數(shù)
    SiC-MOSFET的體二極管,在SiC物質(zhì)特性的原理上決定了其開(kāi)啟電壓較大,高達(dá)2.5V以上,常常成為逆變器工作時(shí)的損耗。“SCH2080KE”集SiC-SBD與SiC-MOSFET于同一封裝內(nèi),大大降低了正向電壓。不僅損耗更低,還可減少部件個(gè)數(shù)。
    圖4:SCH2080KE憑借SiC-SBD將正向電壓降低了70%
    圖4:SCH2080KE憑借SiC-SBD將正向電壓降低了70%

    無(wú)尾電流,可進(jìn)行低損耗開(kāi)關(guān)
    由于不會(huì)產(chǎn)生Si-IGBT中常見(jiàn)的尾電流,因此關(guān)斷時(shí)的開(kāi)關(guān)損耗可減少90%,有助于設(shè)備更加節(jié)能。另外,達(dá)到了Si-IGBT無(wú)法達(dá)到的50kHz以上的開(kāi)關(guān)頻率,因此,可實(shí)現(xiàn)外圍設(shè)備的小型化、輕量化。
     圖5:SiC-MOSFET不會(huì)產(chǎn)生Si-IGBT中常見(jiàn)的尾電流
    圖5:SiC-MOSFET不會(huì)產(chǎn)生Si-IGBT中常見(jiàn)的尾電流
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