新聞事件：

• 會議將在日本東京工業大學舉行

行業影響：

• 此次的國際會議上第一線的研究人員將齊聚一堂
• 這是一次了解透明非結晶氧化物半導體現狀的絕好機會

透明非結晶氧化物半導體及其顯示器應用國際會議“International Workshop on Transparent Amorphous Oxide Semiconductors（TAOS 2010）”將于1月25～26日在日本東京工業大學的SUZUKAKEDAI校區舉行。夏普、佳能、日立制作所、NEC、大日本印刷、凸版印刷、美國惠普（HP）、韓國三星電子（Samsung Electronics）、韓國LG顯示器（LG Display）以及臺灣友達光電（AUO）等代表日本、美國、韓國和臺灣的企業一線研究人員將發表特邀演講。

透明非結晶氧化物半導體作為驅動“新一代FPD”的TFT材料備受期待。這是因為透明非結晶氧化物半導體蘊含著使基于Si TFT的現行面板實現高精細和高速化，并且能夠開拓類似柔性顯示器等新應用的可能性。但對于必須以高成品率來大量制造產品的FPD廠商來說，代替此前用慣了的材料轉而采用新材料存在風險。面向實用化需要探討的課題還很多。克服這些課題需要材料廠商和裝置廠商之間的配合，面向實用化建立伙伴關系也不可或缺。

在這種情況下，此次的國際會議上第一線的研究人員將齊聚一堂。2004年使透明非結晶氧化物半導體的性能提高了一位數、給該領域帶來光明的東京工業大學教授細野秀雄表示：“如此之多的企業和研究人員齊聚一堂還是首次。這是一次了解透明非結晶氧化物半導體現狀的絕好機會。”

目前已經決定由全球最大的FPD廠商韓國三星電子的高級顧問（前任副總裁）昔俊亨（Jun H.Souk）發表主題演講。除了演講外，第8代濺射靶材（Sputtering Target）以及通過透明非結晶氧化物半導體IGZO（In、Ga、Zn、O）TFT驅動的液晶面板也將展出。