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    為什么碳化硅Cascode JFET?可以輕松實現硅到碳化硅的過渡?

    發布時間:2025-03-11 來源:安森美 責任編輯:lina

    【導讀】電力電子器件高度依賴于硅(Si)、碳化硅(SiC和氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)等半導體材料。雖然硅一直是傳統的選擇,但碳化硅器件憑借其優異的性能與可靠性而越來越受歡迎。相較于硅,碳化硅具備多項技術優勢(圖1),這使其在電動汽車、數據中心,以及直流快充儲能系統光伏逆變器能源基礎設施領域嶄露頭角,成為眾多應用中的新興首選技術。


    簡介

     

    電力電子器件高度依賴于硅(Si)、碳化硅(SiC)和氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)等半導體材料。雖然硅一直是傳統的選擇,但碳化硅器件憑借其優異的性能與可靠性而越來越受歡迎。相較于硅,碳化硅具備多項技術優勢(圖1),這使其在電動汽車、數據中心,以及直流快充、儲能系統和光伏逆變器等能源基礎設施領域嶄露頭角,成為眾多應用中的新興首選技術。

     

    為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡?

    圖 1:硅器件(Si)與碳化硅(SiC)器件的比較

     

    什么是碳化硅Cascode JFET技術?

     

    眾多終端產品制造商已選擇碳化硅技術替代傳統硅技術,基于雙極結型晶體管(BJT)、結型場效應晶體管(JFET)、金屬氧化物半導體場效應晶體管(MOSFET)和絕緣柵雙極晶體管(IGBT)等器件開發電源系統。這些器件因各自特性(優缺點不同)而被應用于不同場景。

     

    然而,安森美(onsemi)的EliteSiC 共源共柵結型場效應晶體管(Cascode JFET)器件(圖2)將這一技術推向了新高度。該器件基于獨特的"共源共柵(Cascode)"電路配置——將常開型碳化硅JFET器件與硅MOSFET共同封裝,形成一個集成化的常閉型碳化硅FET器件。我們的碳化硅Cascode JFET能夠輕松、靈活地替代IGBT、超結MOSFET以及碳化硅MOSFET等任何器件類型(圖3)。

     

    本文將深入探討安森美EliteSiC Cascode JFET相較于同類碳化硅MOSFET的技術優勢。

     

    為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡? 

    圖 2:安森美碳化硅 Cascode JFET 器件框圖

      

    碳化硅相較于硅的技術優勢

     

    與硅器件相比,碳化硅Cascode JFET具備多項優勢。碳化硅作為寬禁帶材料,具有更高的擊穿電壓特性,這意味著其器件可采用更薄的結構支持更高的電壓。此外,碳化硅相較于硅的其他優勢還包括:

     

    l 對于給定的電壓與電阻等級,碳化硅可實現更高的工作頻率,從而縮小元器件尺寸,顯著降低系統整體尺寸與成本。

    l 在較高電壓等級(1200V 或更高)應用中,碳化硅可以較低功率損耗實現高頻開關。 而硅器件在此電壓范圍內幾乎無法勝任。

    l 在任何給定的封裝中,與硅相比,碳化硅器件具備更低的導通電阻(RDS(ON))和開關損耗。

    l 在與硅器件相同的設計中,碳化硅能提供更高的效率和更出色的散熱性能,甚至更高的系統額定功率。

     

    碳化硅Cascode JFET: 無縫升級替代硅基方案,卓越性能全面釋放  

     

    這些優勢也體現在安森美 EliteSiC Cascode JFET 的性能中,這是一種更新且功能更強大的器件,針對多種功率應用進行了優化。

     

    與硅基柵極驅動器兼容: 實現向碳化硅的無縫過渡

     

    首先,碳化硅Cascode JFET 的結構允許使用標準硅基柵極驅動器。 這簡化了從硅基到碳化硅設計的過渡,提供了更大的設計靈活性。它們與各種類型的柵極驅動器兼容,包括為 IGBT、硅超結 MOSFET 和 碳化硅MOSFET 設計的驅動器。

     

    為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡? 

    圖 3:按電壓分類的功率半導體器件

     

    其他優勢

     

    · 在給定封裝中,擁有業內領先的漏源導通電阻RDS(ON),可最大程度地提高系統效率。

    · 更低的電容允許更快的開關速度,因此可以實現更高的工作頻率;這進一步減小了如電感器和電容器等大體積無源元件的尺寸。

    · 與傳統應用于這一細分領域的硅基IGBT相比,碳化硅Cascode JFET在更高電壓等級(1200V或以上)下能夠實現更高的工作頻率,而硅基IGBT通常速度較慢,僅能在較低頻率下使用,因此開關損耗較高。

    · 安森美EliteSiC Cascode JFET器件在給定RDS(ON) 的條件下,實現更小的裸片尺寸,并減輕了碳化硅 MOSFET常見的柵極氧化層可靠性問題。

     

    SiC MOSFET vs. 安森美SiC Cascode JFET:深入對比

     

    讓我們花一點時間來更深入地了解SiC MOSFET 與 安森美SiC JFET 技術之間的差異。 從下面的圖 3 中我們可以看到,SiCMOSFET 技術不同于安森美的集成式SiCCascode JFET——這是精心設計的結果。安森美設計的SiCJFET去掉了碳化硅MOSFET 的柵極氧化層,這不僅消除了溝道電阻,還讓裸片尺寸更為緊湊。

     

    安森美碳化硅 JFET 較小的裸片尺寸成為其差異化優勢的一個關鍵所在,"RDS(ON) x A"(RdsA)品質因數 (FOM) 得以最佳體現,如圖 4 所示。這意味著對于給定的芯片尺寸,SiCJFET 具有更低的導通電阻額定值,或者換言之,在相同的 RDS(ON) 下,安森美SiC JFET 的裸片尺寸更小。安森美在 RdsA FOM 方面的卓越表現樹立了行業領先地位,體現在以相對較小的行業標準封裝(如 TOLL 和 D2PAK)提供的超低額定電阻產品。

     

    為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡? 

    圖 4:碳化硅MOSFET 與安森美Cascode JFET 的比較

    (從外部看,Cascode 是一種常關 FET)

     

    與SiCMOSFET 相比,EliteSiC Cascode JFET 具有更低的輸出電容 Coss。輸出電容較低的器件在低負載電流下開關速度更快,電容充電延遲時間更短。這意味著,由于減少了對電感器和電容器等大體積無源元件的需求,現在可以制造出更小、更輕、成本更低且功率密度更高的終端設備。

     

    為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡? 

    圖 5:安森美碳化硅Cascode JFET 與碳化硅 MOSFET 的競爭產品對比

     

    以下是關于SiCMOSFET的其他挑戰:

    · 碳化硅MOS 溝道電阻高,導致電子遷移率較低。

    · Vth 在柵極偏置較高的情況下會發生漂移,這意味著柵極到源極的電壓驅動范圍受到限制。

    · 體二極管具有較高的拐點電壓,因此需要同步整流。

     

    然而,使用安森美的SiCJFET,上述缺陷得以根本解決,因為:

    · SiCJFET 結構的器件上摒棄 MOS(金屬氧化物)結構,因此器件更加可靠。

    · 在相同芯片面積下,漏極至源極電阻更低。

    · 電容更低,這意味著更快的開關轉換和更高的頻率。

     

    為什么選擇安森美EliteSiC Cascode JFET?

     

    盡管市場上可供選擇的SiC功率半導體種類繁多,但在某些特定應用中,一些器件的表現確實比其他器件更為出色。安森美的集成式SiC Cascode JFET 便是其中的佼佼者,因其低 RDS(ON)、低輸出電容和高可靠性等獨特優勢,能夠提供卓越的性能。此外,碳化硅 Cascode JFET架構使用標準硅基柵極驅動器,簡化了從硅到碳化硅的過渡過程,可在現有設計中實施。 因此,它為從硅到碳化硅的過渡提供了靈活性--實施簡單,同時得益于SiC技術而提供卓越的性能。

     

    為什么碳化硅Cascode JFET 可以輕松實現硅到碳化硅的過渡? 

    圖 6:EliteSiC Cascode JFET

     

    這些優點幫助安森美的SiCCascode JFET 技術在其他技術無法企及的領域大放異彩。 碳化硅JFET 的增強性能使其在用于人工智能數據中心、儲能和直流快充等 AC-DC 電源單元中實現更高的效率。隨著對更高功率密度和更緊湊外形需求的增加,安森美SiCCascode JFET 能夠實現更小、更輕和更低成本的終端設備。由于減少了對電感器和電容器等大體積無源元件的需求,有助于實現更高的功率密度。


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